สารเติมแต่งการชุบไฟฟ้าทองแดงความเร็วสูงสำหรับสายการผลิต VCP และ Longmen SHZ-500

รหัสสินค้า : SHZ-500

VCP 及龙门电镀线高速镀铜添加剂 SHZ-500

สารเติมแต่งการชุบไฟฟ้าทองแดงความเร็วสูงสำหรับสายการผลิต VCP และ Longmen SHZ-500

一、简介บทนำ

SHZ-500 是一种高分散性的酸性镀铜工艺，适用于 PCB 垂直连续电镀线高速镀铜工艺的单剂型酸铜添加剂。以及精密性小孔 PCB 板的传统线高速孔铜电镀线，其镀铜分布均匀、延展性佳（平均 20-35%）且具有优异深镀填充能力（TP 值75-95%），可用于喷流式或空气搅拌。本品使用范围宽、易于操作维护。

SHZ-500 เป็นกระบวนการชุบทองแดงด้วยกรดที่มีการกระจายตัวสูงซึ่งเป็นสารเติมแต่งทองแดงกรดตัวแทนเดี่ยวสำหรับการชุบทองแดงความเร็วสูงของเส้นชุบแบบต่อเนื่องแนวตั้งของ PCB เช่นเดียวกับลวดชุบทองแดงแบบรูความเร็วสูงแบบดั้งเดิมของบอร์ด PCB รูเล็กที่มีความแม่นยำการชุบทองแดงมีการกระจายอย่างสม่ำเสมอ ความเหนียวที่ดี (เฉลี่ย 20-35%) และความสามารถในการชุบลึกที่ยอดเยี่ยม (ค่า TP 75-95%) ซึ่งสามารถใช้สำหรับแบบ Jet Flow คือการส่งลมได้แรงและไกลมากประหนึ่งไอพ่นของเครื่องบินเจ็ทหรือแบบอากาศกวน ผลิตภัณฑ์นี้มีช่วงการใช้งานที่หลากหลายและใช้งานง่ายและบำรุงรักษาง่าย

二、   特点คุณสมบัติ

1、镀层延展性良好，具有优质的耐热冲击能力。ชั้นชุบมีความเหนียวที่ดีและทนต่อแรงกระแทกจากความร้อนได้ดีเยี่ยม

2、在高电流密度下，孔铜深度能力和均匀性表现很好。ภายใต้ความหนาแน่นของกระแสไฟสูง ความสามารถในการเจาะรูทองแดงและความสม่ำเสมอออกมาดีมาก

3、稳定性好，镀液稳定，添加范围较宽。มีความเสถียรภาพที่ดี น้ำยาชุบที่คงที่และแน่นอน และขอบเขตส่วนที่เพิ่มเติมที่หลากหลาย

4、消耗量约为 5000A·H/L（4000-6000）。ปริมาณการใช้ประมาณ 5000A • H / L (4000-6000)

三、镀液组成与操作条องค์ประกอบและสภาพการใช้งาน

组份比อัตราส่วนองค์ประกอบ

控制项目รายการควบคุม 控制范围ช่วงการควบคุม 最佳值คุ้มค่าที่สุด

CuSO4คอปเปอร์ซัลเฟต 70 – 100g/L 80 g/L

H2SO4กรดกำมะถัน 180– 250g/L 220 g/L

CL-คลอรีน 30 – 70 ppm 60 ppm

SHZ-500 5 – 10ml/L 5 ml/L

温度 อุณหภูมิ 20 – 32 ºC 23 ºC

Dk 15 – 45 ASF 依据制程要求ตามความต้องการของกระบวนการ

阳极与阴极比 อัตราส่วนขั้วบวกกับแคโทด2:1-1.5 2:1

四、溶液配制。การเตรียมสารละลาย

1、镀槽清洗干净。ทำความสะอาดบ่อชุบ

2、在镀槽中加入 1/3 体积去离子水，加热 45-50℃，加入需要量的 CuSO..5H20，搅拌溶解。เติมน้ำปราศจากไอออนปริมาตร 1/3 ลงในบ่อชุบ เพิ่มความร้อน 45-50 ℃เติม CuSO..5H20 ในปริมาณที่ต้องการแล้วคนให้เข้ากัน

3、按 3m1/1 剂量加入试剂 H202（30%) 空气搅拌、加热至 65℃，按 3g/L 加无硫粉状活性碳，在 65℃下保温 4 小时。เติมรีเอเจนต์ H202 (30%) ในปริมาณ 3m1 / 1    กวนด้วยอากาศ เพิ่มความร้อน 65 ° C เติมถ่านกัมมันต์ปราศจากกำมะถันในปริมาณ3g / L และเก็บไว้ที่ 65 ° C เป็นเวลา 4 ชั่วโมง

4、停止打气，沉降 4 小时。หยุดเติมลมและตกตะกอนเป็นเวลา 4 ชั่วโมง

5、用棉芯过滤，加入需要量的 AR 级 98%的 H2S04 和 CP 级 HC1，加入去离子水至规定体积。ใช้กรองด้วยไส้ตะเกียงฝ้าย เติม 98% H2S04 เกรด AR เกรด และ CP เกรด HC1 เติมน้ำ deionized ตามที่กำหนด

6、清洗阳极袋、磷铜球、钛蓝、镀架等，将规定定量铜球加入钛篮中并将阳极袋套好，挂入镀槽作阳极。ทำความสะอาดถุงขั้วบวก บอลฟอสเฟอร์บรอนซ์ ไททาเนียมบลู ชั้นชุบ ฯลฯ ใส่ลูกทองแดงตามจำนวนที่ระบุไว้ลงในไททาเนียมบลูและปิดปากถุงขั้วบวก แขวนลงในบ่อชุบเป็นขั้วบวก

7、待镀液冷却到 30℃后，用瓦楞板电镀。电流密度 0.5A/dm’电解 10-20 小时。

รอน้ำยาชุบเย็นลงถึง 30° C แล้วให้ใช้กระดาษลูกฟูกสำหรับชุบด้วยไฟฟ้า ความหนาแน่นกระแสคือ 0.5A / dm สำหรับการอิเล็กโทรลิซิสเป็นเวลา 10-20 ชั่วโมง

8、按 5m1/L 加入 SHZ-500 搅拌均匀，用瓦楞板继续电镀 30min 后分析铜酸氯含量以及做调整到标准值，并进行产线试镀。เติม SHZ-500 ในปริมาณ 5m1 / L และคนให้เข้ากัน ชุบด้วยไฟฟ้าต่อด้วยกระดาษลูกฟูกเป็นเวลา 30 นาทีแล้ว  วิเคราะห์ปริมาณที่มีของกรดคอปเปอร์คลอไรด์และปรับให้เป็นค่ามาตรฐานและทำการทดลองชุบในสายการผลิต

五、槽液维护การบำรุงรักษาของเหลวในบ่อ

1、根据霍尔槽试验结果补加光泽剂，每次补加量 1-3ml/L，เติมสารเคลือบเงาตามผลการทดลองบ่อ Hall และเติมปริมาณ 1-3ml / L ในแต่ละครั้ง

2、SHZ-500 消耗量为 200m1/KAh。ปริมาณการใช้ SHZ-500 คือ 200m1 / KAh

3、定期分析 CuSO4.5H20、H2S0、C1 含量，并作必要的调整。วิเคราะห์ปริมาณที่มีของ CuSO4.5H20, H2S0 และ C1 อย่างสม่ำเสมอและแก้ไขปรับปรุงที่จำเป็น

4、每周低电流（D=0.05-0.2ASD)电解 8 小时以上。ต่อสัปดาห์กระแสไฟฟ้าต่ำ (D = 0.05-0.2ASD) การชุบไฟฟ้านานกว่า 8 ชั่วโมง ขึ้นไป

六、分析方法วิธีวิเคราะห์

1、Cus0.5H20

① 移取溶液 1ml，加去离子水 25ml，加 pH=10 缓冲溶液 25ml，加甲醇 10ml，加 PAN 指示剂 5 滴。สารละลายปิเปต 1 มล. เติมน้ำปราศจากไอออน 25 มล. เติมสารละลายบัฟเฟอร์ 25 มล. pH = 10 เติมเมทานอล 10 มล. เติม PAN สารชี้บ่ง 5 หยด

2.用 0.05N EDTA 标准溶液滴定至淡绿色 ใช้ 0.05N EDTA สารละลายมาตรฐานวัดความเข้มข้นของสารละลายจนเป็นสีเขียวอ่อน

计算：CuS0.5H20(g/L)=（M.V)EDTA×250 การคำนวณ: CuS0.5H20 (g / L) = (M.V) EDTA × 250

2、H2SO4

① 取镀液 1m1，加去离子水 50ml，加 5 滴甲基橙指示剂。ใช้น้ำยาชุบ 1 มล. เติมน้ำปราศจากไอออน 50 มล. และเติมสารบ่งชี้ เมธิลออเรนจ์ 5 หยด

② 用 0.5N NaOH 标准溶液滴定至红色 ใช้ 0.5N NaOH สารละลายมาตรฐานวัดความเข้มข้นของสารละลายจนเป็นสีแดง

计算：HiSO.(g/L)=(M.V)EDTA×49 การคำนวณ: HiSO. (g / L) = (M.V) EDTA × 49

3、C1-

① 用 25m1 移液管量取 25m1 镀液，移入用蒸馏水洗净的 250ml 锥形瓶中，加 50m1 蒸馏水稀释，加热至 40-50℃。ดูด 25m1 ของน้ำยาชุบด้วยปิเปต 25m1 แล้วถ่ายลงในขวดทรงกรวยขนาด 250 มล. ซึ่งล้างด้วยน้ำกลั่นสะอาดแล้ว เจือจางด้วยน้ำกลั่น 50m1 และเพิ่มความร้อนถึง 40-50 ℃

②  加 1:1HNO,2-5m1，再滴加 4 滴 0.1NAgNO，溶液，然后用 0.01N 的 Hg(NO)2 滴定，溶液由浑浊变澄清为滴定终点，记下滴定所用的 Hg(NO3)2 的体积数 V。เติม 1:1 HNO, 2-5m1, หยดสารละลาย 0.1NAgNO จำนวน 4 หยด จากนั้นทำการไตเตรทด้วย 0.01N ของHg (NO) 2. สารละลายเปลี่ยนจากความขุ่นเป็นใสคือจุดสิ้นสุดของการไตเตรท จดบันทึกการไตเตรทที่ใช้ตัวเลขปริมาตร V ของ Hg (NO3) 2.

计算：C1(ppm)=(M.V)Hg(No3)2×7.10 การคำนวณ: C1 (ppm) = (M.V) Hg (No3) 2 × 7.10